Semiconductor Wafer Manufacturing Process
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MADE IN JAPAN
ウェーハ洗浄装置シリーズ
Semiconductor Wafer Manufacturing Process
半導体デバイスは、「ウェーハ」と呼ばれる高純度の単結晶シリコン基板に微細加工技術を繰り返し適用することで製造されます。PHTは、半導体製造装置向けの搬送システム（工程内ウェーハ搬送装置、工程間ウェーハ搬送装置、ストッカー搬送装置）および洗浄装置（剥離洗浄装置、枚葉式洗浄装置、バッチ式洗浄装置）を専門とするメーカーとして、特に先端デバイス向けの300mmウェーハや、IoT・車載向けの200mmウェーハの製造プロセスを支えています。次世代の半導体技術が求めるさらなる微細化や高性能化に対応するため、より高精度な搬送技術や洗浄技術の開発を進め、半導体業界の発展に貢献し続けています。
Semiconductor Transfer System/Cleaning Equipment Solution
ウェーハ自動剥離装置（剥離洗浄機）において世界トップクラスのシェアを誇るPHTは、最先端の搬送ロボット技術と高度な洗浄装置技術を活かし、半導体製造に欠かせない搬送システムやウェーハ洗浄装置の設計・製造を行っています。これらの装置は、高度なクリーン環境を求められる半導体製造プロセスにおいて安定した動作を実現し、長期にわたる運用でも高い信頼性を維持します。実際に、PHTの装置には20年以上にわたり稼働を続けているものもあり、現在でも正常に動作し続けており、メタル汚染やパーティクルの増加がないことが実証されています。PHTは、これからも半導体の高機能化・高性能化を支える技術革新を推進し、業界の発展に貢献してまいります。
Power Semiconductor Equipment Solution
PHTは、シリコンウェーハの搬送および洗浄技術において豊富な実績を持ち、その高度なノウハウを活かして、次世代のSiC（炭化ケイ素）やGaN（窒化ガリウム）といったパワー半導体材料の製造プロセスを支えています。特に、これらの新素材は電力効率の向上や高耐圧性能が求められるため、従来のシリコンウェーハとは異なる高度な搬送・洗浄技術が不可欠です。PHTは、こうしたニーズに対応するため、最適な搬送システムソリューション（ロボット、搬送・移載装置、EFEM、ソーター）を提供するとともに、ウェーハの品質維持と歩留まり向上を実現する洗浄装置ソリューション（自動剥離洗浄装置、精密洗浄装置）を開発・提供しています。これにより、PHTは、次世代半導体の生産現場における信頼性向上と生産性向上に貢献し、業界の発展を支え続けています。
Mass Production of Modular Semiconductor Wafer Cleaning Equipment
PHTの半導体ウェーハ洗浄装置（ウェーハ洗浄機）は、独自のユニットモジュール化技術により、プロセスの柔軟性、コスト効率、メンテナンス性の向上を実現しています。代表的な洗浄方法には、純水ブラシ洗浄、RCA洗浄、HF洗浄があり、SiCウェーハの洗浄にはオゾン水を用いた酸化処理にも対応しています。PHTは、業界トップクラスの技術を活かし、モジュール式半導体ウェーハ洗浄装置の量産化を目指して製造を進めています。
PHTのグローバルな拠点情報を紹介します。技術の進歩により、国境は私たちを隔てるものではなくなりました。現在、世界中のチームと協力して仕事を進めています。
1980年
182名
国内
6拠点海外
5拠点
51億円
52%
