次世代半導体向けの最先端チップレットパッケージ技術が開発されており、ガラス基板はパッケージ用キャリア基板としての適用が想定されています。そのガラスキャリア基板の搬送および洗浄装置の提案が可能です。
本装置は、ガラス基板受入洗浄に使用します。薬液は使用せず純水(DIW)のみを使用します。
<洗浄プロセスと装置構成>
プロセスは、下記の順番となっています。
(1)投入コンベア → (2)アイドル → (3)2流体シャワー洗浄 →(4)ブラシ洗浄 →(5)純水シャワー洗浄 →(6)純水による最終リンス洗浄 →(7)吸水ローラによる水切 → (8)エアーナイフによるスリットノズル乾燥 (9)イオナイザーブロー乾燥LD&ULD付です。(ロードポート付帯)
ユニット | 仕様 |
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投入コンベア部 | □ 600 mm × 板厚 0.7~1.2 mm 1枚投入可 |
アイドルポジション | 洗浄投入待機部、排気機能付帯 |
シャワー(1) | 純水シャワー+2流体ノズル洗浄 |
ブラシ洗浄部 | 純水シャワー洗浄+スパイロールブラシ |
シャワー(2) | 純水によるリンス洗浄 |
シャワー(3) | 純水による最終リンス洗浄 |
水切りローラ部 | 吸水ローラによる水切り |
エアー乾燥部 | エアーナイフによる乾燥 |
イオナイザー | イオナイザーブロー乾燥 |
オプションにて、カセットマガジン~ロボットにて枚葉で投入することも可能です。